LG Innotek申请OLED新专利，可减少OLED面板污渍与光干扰

近日，申少来自etnews外媒报道的专利渍光消息，LG Innotek申请了一项通过均匀沉积OLED发光材料从而实现发光效率的可减专利，同时该项专利还可以最大程度上减少以往OLED面板上的板污污渍以及光干扰问题。

据了解，干扰LG Innotek该项专利主要在于改变FMM（全称Fine Metal Mask精细金属掩模结构）结构，申少FMM可以让OLED有机材料精确沉积在显示像素的专利渍光元件，需要钻出数千万个直径为 20 至 30 微米 (㎛) 的可减孔，正因为如此，板污FMM 行业正专注于钻探精确的干扰有机渗透孔。

LG Innotek OLED Mask

而LG Innotek在研究后发现，申少该种方法会降低有机材料沉积的专利渍光效率，主要是可减由于FMM厚度比较薄，容易发生扭曲，板污从而会在OLED面板上形成污点或者光干涉引起的干扰“波纹”，进而影响屏幕观感。基于此，LG Innotek提出通过改变FMM结构来提升均匀性，通过不同尺寸的孔交叉形成一个孔，最大限度地减少相邻孔之间的偏差，可减少FMM扭曲，有望可以延长OLED的使用寿命。